＜図書＞
Chemical vapor deposition : principles and applications / edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen.
| 出版者 | London : Academic Press |
|---|---|
| 出版年 | c1993. |
| 大きさ | v, 677 p. : ill. ; 24 cm. |
| 著者標目 | Hitchman, Michael L. Jensen, Klavs F. |
| 件 名 | Vapor-plating |
目次／あらすじ
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| 配架場所 | 資料種別 | 巻 次 | 請求記号 | 状 態 | 予約 | コメント | ISBN | 刷 年 | 利用注記 | 指定図書 | 登録番号 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 書庫M4F 図書 | 図書 |
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566.78//C38 |
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0123496705 |
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0093106569 |
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